uv光解除臭的工作原理和***點(diǎn)







UV光解除臭技術(shù)是一種利用高能紫外線光束（通常在185nm和254nm波段）來(lái)分解空氣中的有機(jī)分子，從而達(dá)到消除異味和殺菌目的的技術(shù)。這種技術(shù)因其高效、環(huán)保且無(wú)需添加化學(xué)物質(zhì)而受到廣泛關(guān)注。

 

 一、工作原理

 

1. 高能紫外線照射：UV光解除臭設(shè)備通過(guò)***制的高能UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變其分子鏈結(jié)構(gòu)。這些高能紫外線能夠裂解有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物的分子鏈，使其降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如二氧化碳（CO?）、水（H?O）等。

 

2. 臭氧產(chǎn)生：在UV光束的照射下，空氣中的氧分子被分解為游離氧（即活性氧）。這些游離氧因攜帶正負(fù)電子不平衡而需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧（O?）。臭氧具有很強(qiáng)的氧化性，能夠?qū)τ袡C(jī)物進(jìn)行氧化分解，從而進(jìn)一步增強(qiáng)除臭效果。

 

3. 協(xié)同分解氧化反應(yīng)：UV光解除臭設(shè)備利用高能UV光束和臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)。在這個(gè)過(guò)程中，惡臭氣體物質(zhì)被降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外，從而達(dá)到有效脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。

 

4. 破壞細(xì)菌分子鍵：高能UV光束還能夠裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），并通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到有效脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。

二、***點(diǎn)

 

1. 高效除惡臭：UV光解除臭設(shè)備能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)95%以上，******超過(guò)***家相關(guān)排放標(biāo)準(zhǔn)。

 

2. 無(wú)需預(yù)處理：惡臭氣體無(wú)需進(jìn)行***殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等。設(shè)備工作環(huán)境溫度在30℃至95℃之間，濕度在30%至98%、PH值在2至11范圍均可正常工作。

 

3. 無(wú)需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭氣體通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

 

4. 適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)中低濃度、不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的脫臭、凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

 

5. 運(yùn)行成本低：設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查。設(shè)備能耗低，設(shè)備風(fēng)阻極低，可節(jié)約***量排風(fēng)動(dòng)力能耗。

 

 

6. 安全可靠：因采用光解原理，模塊采取隔爆處理，消除了安全隱患，防火、防爆、防腐蝕性能高，設(shè)備性能安全穩(wěn)定，***別適用于采油（氣）田、石油化工、制藥等防爆要求高的行業(yè)。

 

 

7. ***質(zhì)材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)。

 

綜上所述，UV光解除臭技術(shù)具有高效、環(huán)保、安全、運(yùn)行成本低等諸多***點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。